レーザーマーキング用集塵装置 「CFC-1000」
>> タイヨーテクノ（株）
半導体後工程のIC（樹脂部）へのレーザーマキング時に発生する、スス、粉塵、臭気を除去する装置です。
従来品に比べHEPAフィルタの目詰まり発生が少なく、ランニングコスト、メンテナンスの軽減が可能です。
タイヨーテクノ（株）
● 前処理ユニット採用によりHEPAフィルターが目詰まりしにくい
フィルターライフが従来比300％(当社従来品比較)。
● 臭気の除去も可能です。
